PERLAKUAN PERMUKAAN Tujuan :a. Meningkatan tahan korosi suatu permukaanb. Meningkatan tahan aus permukaanc. Meningkatan kekuatan bahan permukaand. Meningkatan konduktivitas listrik permukaane. Meningkatan tahanan listrik permukaanf. Memperindah permukaan

Perubahan sifat-sifat permukaan suatu bahan dpt diperoleh dgn cara:

a.Tranformasi struktural (mechanical treatment).

b.Termokimia dgn difusi (carburising, nitriding).

c.Konversi (bhn bereaksi dgn subtrat)

d.Pelapisan (Elektroplating, hot dipping, PVD)

Sehingga dlm pembahan ini dpt diklasifikasikan:Coating (pelapisan)Phisical / Chemical Vapor DepositionProses Thermal SprayingCoating khusus pencegahan korosi

Coating (pelapisan) :1. Elektroplating: proses pelapisan permukaan yg berlangsung dlm larutan elektrolit, dimana bhn dasar berfungsi sgb catodaPrinsip : V = E C I t, dimana E = eff, V = vol yg dilepas, C = konstanta, I= arus, t = waktu

2. Elektroless plating: proses terjadi berdasarkan reaksi kimia dlm suatu larutan tanpa aliran arus listrik dari luar.Karateristik:-Peralatan sederhana tanpa energi listrik dari luar-Tebal uniform-bahan kimia cukup berbahaya-bahan umum pelapis: Ni-Co, Cu

3. Hot Dipping-proses pelapisan dgn cara mencelupkan bhn ke dlm larutan cair pada temp. tinggi, dimana larutan tsb sebagai bhan pelapis.-bahan dasar hrs memiliki titik lebur lebih tinggi dr bhan pelapis.Jenis Hot Dipping-Galvanising, logam pel. Zn thd Baja/besi-Aluminizing, logam pelapis Al-Tinning, logam pelapis Sn, dll

4. Lapisan Konversi-proses pelapisan dimana lapisan tipis dr oksida,chrom,pospat akan terbentuk pd permukaan berdasarkan reaksi kimia atau elektrokimia.-katagori:* Chemical treatment* Anodizing

Chemical treatment, terdiri dari:-Phosphate coating, Mrpk transformasi permukaan bhn menjdi lap. Pelindung yg mengandung pospat stlh bhn dicelupkan ke dlm larutan pospate salt (berupa Zn, Mg yg dicampur dgn H3PO4)

-Chromate coating, Mrpk transformasi permukaan bhn menjdi lap. Pelindung yg mengandung chromate stlh bhn dicelupkan ke dlm larutan chromate salt , bhn dasar yg digunakan biasanya Al

Anodizing-Tujuannya utk mendapatkan lapisan oksida yang lebih tebal dan kuat, biasanya Al digunakan sebagai anoda dlm suatu tangki yg berisi larutan elektrolit. -Karaterisasi* Peralatan yg digunakan cukup banyak* Tebal lapisan uniform* Proses dpt dilaksanakan scr otomatis

Physical Vapor Deposition :Proses pelapisan dimana suatu bhn di ubah menjadi fase uap (vapor) dlm r vacum dan di kondensasikan ke permukaan bhn dasar.Jenis PVDVacum evaporationSputteringIon Plating

Vacum evaporationMaterial pelapis dipanaskan hingga menguap kemudian dikondensasikan ke bhn dasar

2. SputteringMaterial pelapis dibombardir (ditumbuk) oleh atom / partikel energi tinggi shg atom2 tersebut akan terlempar keluar permukaan bhn padat tsb dgn transfer momentum

3. Ion platingMenggunakan material pelapis yg telah terevaporasi dalam bentuk gas yang terionisasi.-Proses ini menggunakan gas argon-Bhn berfungsi sbg katoda dgn diberi tegangan 1-2 Kv